拋光處理的超精密工藝

    目前國內(nèi)外圓精磨，拋光，磨光，精拋光加工主要以砂紙、砂帶、PVA磨料進行加工。采用砂紙拋光方式，對拋光人員的拋光技術要求很高但由于手工拋光和拋光機械拋光是有一定的局限性，精密研磨拋光的效果也存在很大差異。目前，國外的德國、日本研制成功拋光薄膜的超精拋光系統(tǒng)，使加工產(chǎn)品拋光效果更加精細一致。

    精密拋光系統(tǒng)，主要采用了涂附磨料的拋光膜持繼以單方向加工，磨削及拋光的接觸面均為未經(jīng)使用的超精度拋光磨料。由于拋光磨料不會重復使用，避免了一般精拋時所出現(xiàn)的工件首尾拋光效果不一的弊病。拋光薄膜是在厚度為25～l00μm左右的聚脂薄膜基體上用合成樹脂粘結劑均勻涂附幾十個μm以拋光磨粒的拋光工具。

    日本的研磨薄膜耐熱溫度為使用的高分子粘結材料的溫度，大約25O℃。研磨時以濕式加工為原則，冷卻液為水、油，一般的水即可滿足要求(如自來水)精密加工時用純水，磨鋁合金時用燈油。

拋光薄膜的要素如下：

1. 涂附

    涂附主要采用靜電法和滾涂法。靜電法時結合劑為苯酚．基材為聚脂薄膜．磨料為A12O3、SiC。滾涂法主要是借助印刷技術，磨料與粘結劑混合滾涂，涂附厚度由滾筒控制，即調(diào)節(jié)輥子的聞隙來調(diào)整。另外還有混煉法、燒結法、電鍍法、鍍Ni法。

2. 基材

    基材通常采用聚脂薄膜857(PET)，縱橫向抗拉強度大，伸縮性小，強韌厚度均勻、平穩(wěn)。基材的厚度標準為：25、50、75μm。隨著現(xiàn)在自動化的要求，需要較長的薄膜，厚的薄膜不合要求，故又有7、10、12、23、27、30、37μm系列。

3. 結合劑

    結合劑是采用高分子樹脂和數(shù)十種化合物添加助劑。常用的有丙烯、環(huán)氧、胺基甲酸乙脂。前兩種種比較硬，后一種較軟。一般要求在薄膜上進行兩次涂附，第一次涂附是增加薄膜的附著力。

4. 拋光磨料

    拋光磨料在日本主要使用Al2O3、SiC，還有Cr2O3、CeO2、人造金剛石單晶、FeO、多晶等。拋光磨料細度要細膩且要分布均勻，這就要求嚴格控制粒度分布，不能有大粒。精密研磨產(chǎn)生有四種拋光磨粒：Al2O3、人造盒剛石、SiC、CBN。所有拋光磨粒均經(jīng)精細篩選，使用時不會有粗糙花紋，其產(chǎn)品具有防水性能，干式或濕式均可。

 使用拋光薄膜拋光工藝將是以后拋光精加工的發(fā)展趨勢，它比砂帶拋光工藝更先進。可提高生產(chǎn)能力及效率，合格率高、質量好，拓寬生產(chǎn)范圍，對整個拋光工序可準確控制，將來精拋光行業(yè)將是拋光薄膜的天下。

拋光機 http://www.yzdcdnjs.com